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一种圆锥轴承内圈滚道防磷化装置及其加工工艺
本发明提供一种圆锥轴承内圈滚道防磷化装置及其加工工艺,涉及圆锥轴承加工技术领域,解决了现有的防磷化装置存在着一是现有防磷化装置在对圆锥轴承进行内圈及滚道防磷化处理时需要对外圈及内圈进行拆卸后才能进行防磷化处理,因此存在着清理效率低下,容易因内外圈的拆卸导致磨损,二是现有防磷化装置无法同时集对圆锥轴承的内圈限位及内圈滚道的同时防磷化处理操作,进而存在着使用缺陷的问题,包括驱动机构,所述驱动机构的主体为圆柱形结构设计,本发明中,由于设置有滚道机构,因此通过将清洁组件的接口与限位组件底端的端口使用软管连接后的清洁组件即可通过泵取组件中的水泵泵取磷化液通过喷淋孔喷向轴承的滚道侧进行高效清洁。
一种可提供深加工性能的三价铬钝化液及其制备方法
本发明公开了一种可提供深加工性能的三价铬钝化液及其制备方法,该钝化液由水和以下主要成分组成:(A)至少含一种二足硅烷的硅烷水解溶液,(B)有机树脂的水性分散体或乳液,(C)水溶性三价铬盐,(D)磷酸或磷酸盐,(E)有机酸和(F)复合润滑剂。经过该钝化液处理的镀锌板可直接进行各类加工成型而无需涂敷机加工油。省略涂油工序不仅为板材加工用户提供了绿色环保的生产环境,同时也帮助用户节省了生产成本并提高了生产效率。本发明还公开了上述钝化液的制备方法。
一种简单易操作的铝合金表面化学镀镍前处理工艺
本发明涉及铝合金表面处理领域,具体地说是一种简单易操作的铝合金表面化学镀镍前处理工艺。活化处理溶液包含10~30g/L磷酸盐、20~40g/L碳酸盐、1~5g/L有机酸及其盐、1~5g/L稳定剂、1~5g/L分散剂、1~10g/L缓蚀剂、1~4g/L表面活性剂,余量为水。首先将除油后铝合金基材浸泡在活化处理液中1~10min,常温去除铝合金表面氧化皮和污物等,增加基材表面粗糙度及表面活性;然后放入化学镀液中施镀,得到的镍磷镀层与基体结合力≤1级,与传统二次浸锌工艺得到的镀镍层结合力相当。该工艺过程十分简单,操作便捷,成本低,比传统工艺对环境污染小,是一种更为环保的表面处理新方法。
一种多孔硅粉末的制备装置及制备方法
本发明涉及一种多孔硅粉末的制备装置及制备方法,该制备方法包括以下步骤:(1)取硅源放入HCl和H-2O-2的混合溶液中浸泡,过滤后清洗得到产品A;(2)将产品A置于SnCl-2和HCl的混合溶液中浸泡,然后取出得到产品B;(3)将产品B置于金属沉积液中浸泡,取出后得到产品C;(4)将产品C置于阳极盒中,往电化学腐蚀槽中添加电化学腐蚀液,通气管内通入氧气,接通电源后,电化学腐蚀处理,最后取出清洗干燥,即得到目的产物。与现有技术相比,本发明不使用高毒害的氢氟酸,采用简单的电化学腐蚀法加以设备和方法上的改进,实现粉体硅源的电化学腐蚀,制备时间短,制备出的多孔硅孔道分布均匀,且孔道直径可控,适合工业化生产。
一种耐腐蚀高温敏感铝合金及其制备方法
本发明公开了一种耐腐蚀高温敏感铝合金及其制备方法。本发明先对铝合金基体进行双面打磨,用碳酸钠、磷酸钠和十二烷基苯磺酸钠的混合液对铝合金基体进行表面处理,同时用超声波清洁,再用过氧化氢和十二烷基苯磺酸钠混合液对铝合金基体碱蚀,将硫酸镍、次磷酸钠、醋酸钠、苹果酸和乳酸制得的混合液对碱蚀处理的铝合金基体进行一次镀层,再用硬脂酸改性的氧化铈对一次镀层后的铝合金基体二次镀层,同时真空处理,最后对二次镀层的铝合金基体进行电化学形式的高温高压处理,制得耐腐蚀高温敏感铝合金。本发明制备的耐腐蚀高温敏感铝合金具有高强度、疏水、自清洁、耐腐蚀的效果。
一种金属表面镀制DLC薄膜的方法及其应用
本发明公开了一种金属表面镀制DLC薄膜的方法及其应用。所述方法包括如下步骤:对基体材料进行预处理;采用微波等离子体化学气相沉积法在基体材料表面镀制类金刚石薄膜。通过本发明方案制备的表面镀制DLC薄膜的金属,工艺简单、成本低廉,在骨科植入材料、功能性材料、生物活性材料等领域均具有广泛的应用前景,适用于批量及工业化生产。
一种真空悬浮镀膜设备
本发明公开一种真空悬浮镀膜设备,包括外壳、安装于外壳内部的内壳以及放置于内壳内部的工件载具,内壳的封闭端设置有连接抽气系统的抽气接口,内壳的开放端设置有用于工件载具进出的开口,外壳的开放端设置有密封门,密封门内侧安装有盖板,盖板内侧安装有匀流板总成,密封门关闭时盖板封闭开口,匀流板总成由开口伸入内壳,盖板和匀流板总成之间设置有空间间隔,匀流板总成上设置有连通空间间隔和内壳内部空间的气孔,通过多个工艺气体通道连通空间间隔,用于将多种类型的气体输送至空间间隔。使工艺气体成分流动更为均匀,腔体内部的流道短,可以有效防止MO源的凝结,进而设备可以使用的工艺腔体尺寸更大,提升设备可靠性和适用性。
MOCVD腔体结构及其控制方法和MOCVD反应室
本申请涉及一种MOCVD腔体结构及其控制方法和MOCVD反应室。MOCVD腔体结构包括:天棚;石墨基座,位于天棚的下方,天棚与石墨基座之间形成气体流道,石墨基座的上表面设有多个凹槽,凹槽的侧壁上设有进气口;多个石墨盘,分别设置于对应的凹槽内,进气口位于石墨盘上方;多个盖板,分别可开闭的设置于对应的石墨盘上方,盖板关闭时遮盖对应的石墨盘;第一气路,穿过天棚连通气体流道;第二气路,穿过天棚连通凹槽侧壁上的进气口。本申请的MOCVD腔体结构可用于在一次生长过程中实现多种外延结构的生长,提高研发的效率。
一种LDS复合材料及其制备方法、LDS天线
本发明实施例公开了一种LDS复合材料及其制备方法、LDS天线,LDS复合材料包括高介电树脂基复合材料,以及负载于所述高介电树脂基复合材料表面的金属薄膜。制备方法包括:S100、在所述高介电树脂基复合材料上沉积第一层金属薄膜;S200、在所述第一层金属薄膜上继续沉积形成第二层金属薄膜;S300、顺次重复步骤S100和步骤S200至金属薄膜的层数达到预设值,制得LDS复合材料。本发明通过在基底上顺次沉积薄膜实现逐层控制基底上的薄膜的外延生长,使得薄膜均匀性好,致密性高,同时具有高保形性,有效提高后期使用过程中激光辐照条件下材料的表面活化性能,进而满足其在5G手机天线中的使用需求。
一种构件内壁ALD镀膜设备及方法
本发明提出一种构件内壁ALD镀膜设备及方法,包括载气装置、前驱体装置、反应腔、压力测量装置和抽真空装置,反应腔为待镀膜的构件内腔,待镀膜的构件内腔通过前后法兰构成密闭腔体,前法兰上安装双通接头,分别与载气装置、前驱体装置连接,使载气和前驱体混合后进入构件内腔中,后法兰上安装接头,分别与压力测量装置和抽真空装置连接。本发明通过设备改造及工艺设计,实现具有复杂细小腔道的金属部件的内表面均匀镀层处理,技术可广泛应用于航空航天、机械、汽车、微电子等领域,具有较强的推广性和实用意义。