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改善膜层沉积工艺中首片效应的方法
本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种改善膜层沉积工艺中首片效应的方法。所述改善膜层沉积工艺中首片效应的方法包括如下步骤:提供反应腔室;形成覆盖于所述反应腔室内壁的第一膜层,所述第一膜层储存有热量以维持所述反应腔室内稳定的热环境;放置晶圆至所述反应腔室;于所述晶圆表面形成第二膜层。可选的,形成覆盖于所述反应腔室内壁的第一膜层的具体步骤包括:传输第一反应气体和第二反应气体至所述反应腔室,所述第一反应气体与所述第二反应气体反应生成覆盖于所述反应腔室内壁的第一膜层。本发明减小或者是最大程度的改善了首片效应的影响,提高了半导体产品的良率,同时提高了机台产能。
用于沉积氧化硅膜的组合物和方法
本文描述了用于形成氧化硅膜的组合物和方法。在一个方面,所述膜由至少一种硅前体化合物沉积,其中所述至少一种硅前体化合物选自如本文定义的下式A和B:
用于沉积氮化硅膜的组合物和方法
本文描述了组合物、氮化硅膜和使用至少一种环二硅氮烷前体形成氮化硅膜的方法。在一个方面中,提供了一种形成氮化硅膜的方法,所述方法包括以下步骤:在反应器中提供衬底;向所述反应器内引入至少一种包含烃离去基团和两个Si-H基团的环二硅氮烷,其中该至少一种环二硅氮烷在至少一部分所述衬底的表面上反应以提供化学吸附层;采用吹扫气体吹扫所述反应器;向所述反应器内引入包含氮和惰性气体的等离子体以与所述化学吸附层的至少一部分反应并提供至少一个反应性位点,其中所述等离子体以约0.01至约1.5W/cm~2范围的功率密度生成。
一种在锆合金表面制备钽涂层的方法
本发明属于锆合金表面改性技术领域,尤其涉及一种锆合金表面制备金属钽涂层的方法。本发明提供的锆合金表面制备金属钽涂层的方法,包括以下步骤:将氯气与预热的金属钽进行氯化反应,生成氯化钽气体,所述氯化反应的温度为1000~1200℃;将所述氯化钽气体和氢气在预热的锆合金表面进行还原反应,在所述锆合金表面生成钽涂层,所述还原反应的温度为1000~1200℃。本发明提供得的方法能够使金属钽均匀分布在锆合金表面,有利于提高锆合金的生物相容性和耐腐蚀能力,同时反应效率高,可大规模生产。
一种表面具有纳米金刚石薄膜涂层的PCBN刀具及其制备方法
本发明提供了一种表面具有纳米金刚石薄膜涂层的PCBN刀具及其制备方法,所述制备方法包括以下步骤:将预处理后的PCBN刀具在纳米金刚石粉中进行干抛至光亮,然后置于基台上,放入微波等离子体化学气相沉积系统中抽真空,抽真空后通入第一反应源气体;开启微波等离子体化学气相沉积系统,微波激发第一反应源气体产生等离子体球,然后通入第二反应源气体开始沉积,沉积完成后得到表面具有纳米金刚石薄膜涂层的PCBN刀具;所述制备方法优化了微波等离子体化学气相沉积工艺,通过调控制备条件,在刀具表面均匀沉积纳米级金刚石涂层,有效提高了金刚石涂层的薄膜质量与稳定性,延长了刀具的使用寿命,具有较好的工业化应用前景。
一种镀膜厚度光学控制装置和方法
本发明涉及一种镀膜厚度光学控制装置和方法,所述的装置包括一个及以上不同波长的激光器、用于不同波长激光分束和合束的分光光学元件、散射板、驱动电机、透镜、多模光纤、光功率计、光控测试片、以及镀膜夹具。激光经过受驱动电机驱动而旋转的散射板转化为准相干光,准相干光经透镜聚焦进入多模光纤,传输至镀膜机,并经透镜准直后入射至光控测试片,透射光经透镜聚焦后进入第二多模光纤,在光纤出口经准直和分光,利用光功率计分别测量不同波长的出射光的功率,监控光控测试片上不同波长光的透射率,实现镀膜厚度的控制。薄膜厚度光学控制装置具有结构简单,安装方便,监控光源线宽窄的特征,可实现高精度光学薄膜镀膜过程的厚度控制。
一种镀膜设备靶位的功率调整方法、装置、控制器及存储介质
本发明实施例公开了一种镀膜设备靶位的功率调整方法、装置、控制器及存储介质,涉及低辐射镀膜玻璃制造技术领域。所述镀膜设备靶位的功率调整方法:包括实时获取玻璃距靶位的距离;判断玻璃距靶位的距离是否小于预设的距离阈值;若玻璃距靶位的距离小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第一功率值;若玻璃距靶位的距离不小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第二功率值;其中,第二功率值小于第一功率值。本发明能够避免能量浪费,更节能;进一步地,无需人工调整,节省人力;进一步地,功率调整控制精准,产品质量好。
一种便于进行多面镀的刀具真空离子镀加工装置
一种便于进行多面镀的刀具真空离子镀加工装置,本发明涉及镀膜设备技术领域;转动电机设置于壳体本体的上侧中部;上支撑柱设置于壳体本体内,且上支撑柱的顶端与转动电机的输出轴连接固定;一号电动推杆设置于上支撑柱底部开设的凹槽内;连接杆活动设置于上支撑柱底部的凹槽内,且连接杆的顶端与一号电动推杆的推动端连接固定;下支撑柱设置于加工筒内,并与连接杆的底部连接固定;套筒为两个,且套筒分别套设并固定在下支撑柱上;放置网架为数个,放置网架置于套筒的外围,放置网架靠近套筒的一侧与套筒连接固定;能够带动刀具进行转动,使刀具在镀膜机内进行均匀的镀膜,避免出现镀膜不均匀的现象,且提高了镀膜的工作效率。
一种具有纳米结构的半导体薄膜材料及其制备方法
本发明公开了一种具有纳米结构的半导体薄膜材料及其制备方法,该材料通过一步脱合金化法制备而成,同时具有纳米纤维和多面体纳米颗粒两种纳米结构。本发明所得半导体薄膜材料不仅自身具有光电流响应、醇类催化特性,而且其比表面积较大、利于载流子传输的特点使其可作为载体材料,在光电探测器、降解有机物、负载型催化剂等领域皆有应用前景。
一种Zr-B-O-N薄膜、Cu互连结构及其制备方法
本发明提供一种Zr-B-O-N薄膜、Cu互连体及其制备方法,以ZrB-2复合靶为靶材,在N-2和Ar混合气氛下进行反应磁控溅射,在基底上沉积得到Zr-B-O-N薄膜在所述的Zr-B-O-N薄膜上沉积Cu层得到Cu互连结构。本发明得到的Zr-B-O-N薄膜为非晶结构,具有扩散阻挡性能,能解决Cu互连结构中Cu扩散的问题。