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确定图案化过程的校正的方法
公开了一种确定与衬底上的光刻过程相关的过程参数的校正的方法和相关联的设备。所述光刻过程包括多次运行,在多次运行中的每一次运行期间将图案施加到一个或更多个衬底。所述方法包括获得用于描述所述衬底的属性的曝光前的量测数据;获得曝光后的量测数据,所述曝光后的量测数据包括已经对一个或更多个先前曝光的衬底执行的过程参数的一个或更多个测量值;基于所述曝光前的量测数据,将来自一个或更多个组的组员关系状态分配给所述衬底;和基于所述组员关系状态和所述曝光后的量测数据确定所述过程参数的校正。
光刻机外围设备集成监测系统及监测方法
本发明公开了一种光刻机外围设备集成监测系统,包括:监控PLC、网络连接装置、车间空调系统、空压机、UPS、通讯模块、触摸屏和远程终端,所述监控PLC采集所述车间空调系统、空压机和UPS的运行参数,监测运行状态;所述监控PLC、所述通讯模块和所述触摸屏通过所述网络连接装置进行通信;所述远程终端通过互联网与所述通讯模块进行通信。本发明对各个设备运行状态采集和监控,并实时显示。本发明还公开了光刻机外围设备集成监测系统的监测方法。
一种光-热双固化感光胶、其制法及使用方法
本发明提供一种光-热双固化感光胶、其制法及使用方法。该感光胶包括油性组分A和水性组分B,其中,组分A各组分包括带有羟基和乙烯基类基团的改性丙烯酸酯、活性稀释剂、光引发剂以及添加剂;组分B包括聚乙烯醇类聚合物、改性含羟基的聚醋酸乙烯酯树脂、添加剂以及水。本申请提供的光-热双固化感光胶采用光固化反应和热交联固化反应,使感光胶膜固化更加完全,通过控制热固化过程参数,不仅增加了光固化部分胶膜的交联程度,同时保证未光固化部分胶膜的水溶性,制得的胶膜具有优异的附着力、柔韧性和耐印率。本申请的光-热双固化感光胶制备方法简单易行,绿色环保且便于使用,可用于大规模生产。
黑色感光性树脂组合物、黑矩阵及图像显示装置
本发明提供黑色感光性树脂组合物、黑矩阵及图像显示装置,上述黑色感光性树脂组合物包含黑色着色剂、碱溶性树脂、光聚合性化合物、光聚合引发剂、环氧化合物以及具有硫醇基的化合物,上述光聚合性化合物包含4官能以下的光聚合性化合物。本发明的黑色感光性树脂组合物即使在低温固化时也呈现正锥角,且耐溶剂性和密合性优异,从而即使在高分子材料的柔性基板上应用时,也能够改善图案的反锥角,形成耐久性优异的图案。
活性能量线固化型树脂组合物、固化膜及膜
[技术问题]提供能够提供抗静电性和耐湿热性优异的固化膜的新型活性能量线固化型树脂组合物。[技术手段]活性能量线固化型树脂组合物,所述活性能量线固化型树脂组合物包含:具有季铵盐结构的聚合物(A);重均分子量(Mw)为10,000~50,000的多官能(甲基)丙烯酸酯(B)(但(C)成分除外);以及羟值为50mgKOH/g~200mgKOH/g的含羟基的(甲基)丙烯酸酯(C)。
一种stamp基底及制备方法
本发明提供一种stamp基底及制备方法,包括PET膜;所述PET膜的其中一侧表面设置有第一玻璃层,所述PET膜和第一玻璃层之间通过第一光刻胶层进行连接形成第一面stamp基底;所述PET膜的另一侧表面设置有第二玻璃层,所述PET膜和第二玻璃层之间通过第二光刻胶层进行连接形成第二面stamp基底。通过将stamp基底由PET膜,转移到玻璃基底上,在PET膜的两侧通过光刻胶层连接玻璃层,这样可以保证在压印后脱模过程中,拉扯PET膜,玻璃不会产生明显形变,因此stamp胶不会产生形变,进而产品压印不会存在形变保证对位,能够保证纳米压印整面对位的稳定性,能够满足纳米压印整面对位±5微米的要求。
光学邻近修正模型的建模方法
本发明提供了一种光学邻近修正模型的建模方法,至少包括以下步骤:设计测试图形,并根据所述测试图形制作测试光罩;利用所述测试光罩将所述测试图形转移至晶圆上,在所述晶圆上形成实际图形,并收集所述实际图形的第一晶圆数据;通过所述第一晶圆数据确定离焦量范围;根据所述离焦量范围进行拟合,以建立光学邻近修正模型。即本发明通过提前确定离焦量范围,且在所述光学邻近修正模型的建模的拟合过程中,将离焦量设定在确定的离焦量范围内,可以减少回归处理的时间和次数,缩短光学邻近修正模型的建模时间,提高建模的效率。
预测图形桥联的方法、装置及电子设备
本发明提供了一种预测图形桥联的方法、装置及电子设备。具体的,通过将实际光刻工艺过程中,光刻工艺制程的波动对曝光在晶圆上的图形的桥联影响,模拟成对已建立的OPC模型的光强阈值的影响,从而在设计版图流片之前,通过对已建OPC模型的光强阈值进行修改的方式,利用修改后的OPC模型对设计版图的测试版图进行多次仿真分析,以便在设计版图进行流片之前,就检查出设计版图中可能由于光刻工艺制程的波动而在发生桥联的主图形,并对检查出的可能发生桥联的主图形进行修正,进而提升产品良率。
光掩模以及显示装置的制造方法
本发明提供光掩模以及显示装置的制造方法,具有通过使用中紫外曝光用光进行曝光,从而在被转印体上转印微细的孔图案的优异的转印性能。一种光掩模,光掩模是显示装置制造用的光掩模,光掩模用于在被转印体上使用中紫外曝光用光形成尺寸为Dp且Dp≤3μm的孔图案,在透明基板上具有包含孔图案的转印用图案,转印用图案中的孔图案由被半调区域包围的透光部构成,对于用于对光掩模进行曝光的中紫外曝光用光中包含的基准波长的光,透光部与半调区域的相位差θ大致为180度,并且半调区域对于基准波长的光的透射率T为10%≤T≤35%。
掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法
本发明涉及一种掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法。本发明的掩模坯为具有成为相移掩模的层的掩模坯。掩模坯具有:相移层,层叠于透明基板;蚀刻停止层,设置在比所述相移层更远离所述透明基板的位置上;和遮光层,设置在比所述蚀刻停止层更远离所述透明基板的位置上。所述相移层含有铬。所述遮光层含有铬和氧。所述蚀刻停止层含有硅化钼和氮,并且在膜厚方向上靠近所述遮光层的位置上具有氮浓度达到峰值的峰值区域。

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