发明内容

为了解决现有技术中存在的问题，本发明提供一种stamp基底及制备方法，能够保证纳米压印整面对位的稳定性，能够满足纳米压印整面对位±5微米的要求。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种stamp基底，包括PET膜；

所述PET膜的其中一侧表面设置有第一玻璃层，所述PET膜和第一玻璃层之间通过第一光刻胶层进行连接形成第一面stamp基底；

所述PET膜的另一侧表面设置有第二玻璃层，所述PET膜和第二玻璃层之间通过第二光刻胶层进行连接形成第二面stamp基底。

优选的，所述第一玻璃层和第二玻璃层的厚度范围均为70～100μm。

优选的，所述第一光刻胶层和第二光刻胶层的厚度范围均为5～10μm。

优选的，所述第一光刻胶层和第二光刻胶层通过UV固化方式粘结PET膜和玻璃层。

优选的，所述PET膜的厚度范围为0.25～0.5mm。

一种stamp基底的制备方法，包括以下过程，

步骤1，将第一玻璃层放置在工作台上，在第一玻璃层上进行第一光刻胶层的涂覆；

步骤2，在涂胶完成的第一玻璃层上采用stamp压印制作工艺，将PET膜与涂胶后的第一玻璃层进行压印；压印后将整体结构进行固化形成第一面stamp基底；

步骤3，将第二玻璃层放置在工作台上，在第二玻璃层上进行第二光刻胶层的涂覆；

步骤4，在涂胶完成的第二玻璃层上采用stamp压印制作工艺，将步骤2中的第一面stamp基底与涂胶后的第二玻璃层进行压印，压印后进行固化形成第二面stamp基底。

优选的，步骤1中，采用spin-coating的加工方式在第一玻璃层上涂覆第一光刻胶层。

优选的，步骤3中，采用spin-coating的加工方式在第二玻璃层上涂覆第二光刻胶层。

与现有技术相比，本发明具有以下有益的技术效果：

本发明提供一种stamp基底，通过将stamp基底由PET膜，转移到玻璃基底上，在PET膜的两侧通过光刻胶层连接玻璃层，这样可以保证在压印后脱模过程中，拉扯PET膜，玻璃不会产生明显形变，因此stamp胶不会产生形变，进而产品压印不会存在形变保证对位，第一玻璃层能够保证在滚压印过程中，压力面有PET膜变更为玻璃，降低滚压过程中stamp基底产生的形变；第二玻璃层能够同时降低压印和脱模过程中stamp基底产生的形变，两者共同作用，降低stamp基底形变，保证压印和脱模过程图案的稳定性，保证片与片之间的稳定性，保证对位效果。

本发明提供一种stamp基底的制备方法，工艺流程简单，通过在第一玻璃层上进行第一光刻胶层的第一光刻胶层压印后形成第一面stamp基底，在第二玻璃层上涂覆第二光刻胶层，将第一面stamp基底与涂胶后的第二光刻胶层进行压印，压印后进行固化形成第二面stamp基底。产生OKstamp基底，可用于stamp制作；加工成本低，经济效益高。