一种工艺检测方法及系统、设备、存储介质,工艺检测方法包括：提供基底,基底上形成有底层功能结构、以及位于底层功能结构上方的待检测功能层,待检测功能层中形成有开口,开口露出底层功能结构；提供底层功能结构的版图图形作为第一版图图形,提供开口的版图图形作为第二版图图形；获取开口的轮廓图形；对轮廓图形与第二版图图形进行第一叠加处理,获得第一叠加图形；根据第一叠加图形比较轮廓图形与第一版图图形的相对位置关系,并根据相对位置关系检测薄弱点。所述底层功能结构所对应的第一版图图形的边界清楚且完整,因此,通过比较轮廓图形与第一版图图形的相对位置关系的方式,使得判断结果更精准,相应提高了工艺检测的精度。
