具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本申请实施例提供一种标记位置设定方法及装置，所述标记位置设定方法包括：获取成膜区位置参数；根据所述成膜区位置参数在预设基板上确定第一候选标记区域；获取占据物位置参数；根据所述占据物位置参数，在所述第一候选标记区域内确定第二候选标记区域；获取坐标约束参数；基于所述坐标约束参数，在所述第二候选标记区域内确定标记位置参数；根据所述标记位置参数确定标记的设定位置。本申请实施例通过成膜区位置参数和占据物位置参数确定候选标记区域，并根据坐标约束参数在候选标记区域内确定标记设定位置，便于通过自动化进行标记位置的设定，有利于提升设计掩膜板标记的准确性，并有利于降低生产成本。

请参阅图1，图1是本申请实施例提供的标记位置设定方法的应用场景流程图。掩膜板的排版设计需要经过以下步骤：排版；固定标记摆放；走线布置；非固定标记摆放；干涉判断；曝光测试分析；完成掩膜板排版。其中，排版是指：确定掩膜板的尺寸特征和结构元素特征。固定标记摆放是指：确定掩膜板上需要设定的固定位置的标记，并人工设定好这些固定标记的位置。走线布置是指：将掩膜板所需的测试走线、功能走线等在掩膜板上进行铺设。非固定标记摆放是指：掩膜板上需要根据具体尺寸、要求等要素进行设计的标记的设定，本申请实施例提供的标记位置设定方法正是针对该非固定标记的摆放。干涉判断是指：对也摆放好的固定标记、走线、非固定标记进行干涉判断，并确定它们之间是否干涉的状况；若存在干涉情况则返回重新进行固定标记的摆放。曝光测试分析是指：进行测试走线、功能走线的功能测试，并进行曝光测试，判断是否存在问题；若存在问题则返回重新进行走线布置的步骤。最后完成掩膜板的排版设计。

请参阅图2，图2是本申请实施例提供的标记位置设定方法流程图。本申请实施例提供的标记位置设定方法包括以下步骤：

步骤S101，获取成膜区位置参数。

具体地，所述获取成膜区位置参数的步骤包括：获取所述预设基板的边缘尺寸参数；获取边缘保证区的尺寸参数；根据所述预设基板的边缘尺寸参数和所述边缘保证区的尺寸参数，确定所述成膜区位置参数。

例如，获取预设基板的边缘尺寸参数为：长100毫米，宽80毫米；获取边缘保证区的尺寸参数为：距离边缘15毫米；根据预设基板的边缘尺寸参数和边缘保证区的尺寸参数确定成膜区位置参数为：成膜区的尺寸是长85毫米、宽65毫米，在该成膜区内建立坐标系并标定成膜区边缘的尺寸数据，得到成膜区位置参数。

又比如，设定Enclosure to glass参数：用来定义将标记摆放在成膜区内，成膜区距离基板边缘的距离可以设定为15毫米。

步骤S102，根据所述成膜区位置参数在预设基板上确定第一候选标记区域。

具体为，将所述成膜区的位置参数在所述预设基板上对应成膜区域确定为第一候选标记区域，所述第一候选标记区域是设定标记位置的有效区域。

步骤S103，获取占据物位置参数。

具体地，所述占据物包括标记占据物和器件占据物。所述标记占据物是指：所述第一候选标记区域内已经存在的标记，比如通过人工设定的固定标记等。所述器件占据物是指：所述第一候选标记区域内已经存在的走线、电子元件等，比如已经设定好的测试走线和功能走线。

所述获取占据物位置参数的步骤包括：在所述第一候选标记区域内检测标记占据物；计算所述标记占据物在所述第一候选标记区域内的位置数据；根据所述标记占据物在所述第一候选标记区域内的位置数据确定占据物位置参数。

比如，设定Forbidden Area参数：用以选择禁空区层，主要用于防止新设标记与禁空区内的标记发生干涉。

进一步地，所述获取占据物位置参数的步骤还包括：在所述第一候选标记区域内检测器件占据物；计算所述器件占据物在所述第一候选标记区域内的位置数据；根据所述器件占据物在所述第一候选标记区域内的位置数据确定占据物位置参数。

比如，设定Blockage Layer参数：用以选择障碍物层，主要用于防止新设标记与障碍物发生干涉，该障碍物比如是测试走线、功能走线等。

步骤S104，根据所述占据物位置参数，在所述第一候选标记区域内确定第二候选标记区域。

具体地，所述根据所述占据物位置参数，在所述第一候选标记区域内确定第二候选标记区域的步骤包括：根据所述占据物位置参数确定占据物的占据区域；从所述第一候选标记区域内去除所述占据物的占据区域，得到所述第二候选标记区域。

步骤S105，获取坐标约束参数。

具体地，所述坐标约束参数包括横向坐标约束参数、纵向坐标约束参数、双向坐标约束参数中的至少一种。

可选地，所述获取坐标约束参数的步骤还包括：获取标记数量参数和坐标范围参数。其中，所述标记数量参数是指限定标记数量的参数，所述坐标范围参数是指限定坐标值范围的参数。

例如，关于坐标范围参数可以是：Max X Distance参数，其用于限定当前所有标记的X坐标距离最大值；Max Y Distance参数，其用于限定当前所有标记的Y坐标距离最大值；Min X Distance参数，其用于限定当前所有标记的X坐标距离最小值；Min Y Distance参数，其用于限定当前所有Mark的Y坐标距离最小值。

步骤S106，基于所述坐标约束参数，在所述第二候选标记区域内确定标记位置参数。

所述坐标约束参数包括横向坐标约束参数，所述基于所述坐标约束参数，在所述第二候选标记区域内确定标记位置参数的步骤包括：根据所述横向坐标约束参数，确定标记的横向坐标；根据所述标记的横向坐标确定所述标记位置参数。

例如，设定X坐标约束参数:By Left&Right Sides Of Mask-column(Unshared)，即限定新设标记必须在第二候选标记区域内设置对称两列，也就是限定了新设标记的横向坐标。设定X：Locate On n Cols，即限定新设标记的数量。

进一步地，所述坐标约束参数还包括纵向坐标约束参数，所述基于所述坐标约束参数，在所述第二候选标记区域内确定标记位置参数的步骤还包括：根据所述纵向坐标约束参数，确定标记的纵向坐标；根据所述横向坐标和所述纵向坐标确定所述标记的位置参数。

例如，设定Y坐标约束参数:Matrix On Y Distance Series，即要求每一列新设标记中，必须保持的Y方向的标记间距。设定Y：Locate On m Rows，即限定每一列中新设标记的数量。

进一步地，所述坐标约束参数包括双向坐标约束参数，所述基于所述坐标约束参数，在所述第二候选标记区域内确定标记位置参数的步骤还包括：根据所述双向坐标约束参数，确定标记的横向坐标和标记的纵向坐标；根据所述标记的横向坐标和所述标记的纵向坐标，确定所述标记位置参数。

例如，设定XY:Around Center Of Glass，即要求在候选标记区域内的中心点或者附近设定一个标记。设定XY：By Corner Of Panel，即规定必须每个标记区域的中心必须设定一个标记。设定XY:Coordinates，即指定当前标记所在的坐标系。设定XY:By Lens'Center Line，即规定在特定棱镜的某一范围内设定标记。设定XY:Mark Placing ByScopes，即在指定的X、Y坐标区域内设定标记，可以定义多个区域，一个区域设定一个标记。设定XY:Matrix On n Cols&m Rows，即要求新设的全部标记形成n行m列的矩阵形式。设定XY:Mirror X，即限定当前的所有标记必须形成关于X轴对称布局。设定XY:Mirror Y，即限定当前的所有Mark必须形成关于Y轴对称布局。

步骤S107，根据所述标记位置参数确定标记的设定位置。

具体为，根据上述步骤确定的标记具体位置数据，在所述第二候选标记区域内确定标记的具体设定位置，从而进行标记的设定。

下面结合具体实施例对上述标记位置设定方法进行说明：

请参阅图3，图3是采用本申请提供的标记位置设定方法设定的标记排版示意图。

首先，确定预设基板的尺寸数据：预设基板沿X轴和Y轴分别对称，并存在对称中心O，预设基板边界数据为X向最大尺寸425毫米、Y向最大尺寸700毫米。

然后，除去边缘保证区的尺寸(20毫米)，得到成膜区的尺寸数据。

之后，在成膜区内根据坐标约束参数设定标记的具体位置(本实施例以成膜区内的占据物数量为0示意)，坐标约束参数具体如下：

全部标记以对称中心O保持中心对称；

X1等于X2，L小于或等于746毫米；

Y(+)和Y(-)均小于等于640毫米，且Y(+)和Y(-)可以不相等；

标记排列为3行2列，排列布局关于X轴和Y轴分别对称。

综上所述，本申请实施例提供的标记位置设定方法通过成膜区位置参数和占据物位置参数确定候选标记区域，并根据坐标约束参数在候选标记区域内确定标记设定位置，便于通过自动化进行标记位置的设定，有利于提升设计掩膜板标记的准确性，并有利于降低生产成本。

本申请实施例还提供一种标记位置设定装置，请参阅图4，所述标记位置设定装置包括：第一获取模块401、第一确定模块402、第二获取模块403、第二确定模块404、第三获取模块405、第三确定模块406、以及第四确定模块407。

所述第一获取模块401用于获取成膜区位置参数；所述第一确定模块402用于根据所述成膜区位置参数在预设基板上确定第一候选标记区域；所述第二获取模块403用于获取占据物位置参数；所述第二确定模块404用于根据所述占据物位置参数，在所述第一候选标记区域内确定第二候选标记区域；所述第三获取模块405用于获取坐标约束参数；所述第三确定模块406用于基于所述坐标约束参数，在所述第二候选标记区域内确定标记位置参数；所述第四确定模块407用于根据所述标记位置参数确定标记的设定位置。

所述第一获取模块401还用于获取所述预设基板的边缘尺寸参数，并用于获取边缘保证区的尺寸参数，并用于根据所述预设基板的边缘尺寸参数和所述边缘保证区的尺寸参数，确定所述成膜区位置参数。

所述第二获取模块403用于在所述第一候选标记区域内检测标记占据物，还用于计算所述标记占据物在所述第一候选标记区域内的位置数据，还用于根据所述标记占据物在所述第一候选标记区域内的位置数据确定占据物位置参数。

所述第二获取模块403还用于在所述第一候选标记区域内检测器件占据物，还用于计算所述器件占据物在所述第一候选标记区域内的位置数据，还用于根据所述器件占据物在所述第一候选标记区域内的位置数据确定占据物位置参数。

所述第二确定模块404用于根据所述占据物位置参数确定占据物的占据区域，还用于从所述第一候选标记区域内去除所述占据物的占据区域，得到所述第二候选标记区域。

所述第三确定模块406用于根据所述横向坐标约束参数，确定标记的横向坐标，还用于根据所述标记的横向坐标确定所述标记位置参数。

所述第三确定模块406还用于根据所述纵向坐标约束参数，确定标记的纵向坐标，还用于根据所述横向坐标和所述纵向坐标确定所述标记的位置参数。

所述第三确定模块406还用于根据所述双向坐标约束参数，确定标记的横向坐标和标记的纵向坐标，还用于根据所述标记的横向坐标和所述标记的纵向坐标，确定所述标记位置参数。

所述第三获取模块405还用于获取标记数量参数和坐标范围参数。所述第三确定模块406还用于基于所述坐标约束参数、所述标记数量参数和所述坐标范围参数，在所述第二候选标记区域内确定所述标记位置参数。

需要说明的是，虽然本申请以具体实施例揭露如上，但上述实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。