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一种底部抗反射膜树脂和组合物及图案形成方法
本发明属于光刻领域,涉及一种底部抗反射膜树脂和组合物及图案形成方法。所述底部抗反射膜树脂包括含氟双酯基结构单元以及任选的不含氟双酯基结构单元;所述底部抗反射膜树脂的重均分子量Mw为1000~100000;所述含氟双酯基结构单元在底部抗反射膜树脂分子链中的占比为30wt%以上,所述不含氟双酯基结构单元在底部抗反射膜树脂分子链中的占比为0~20wt%。本发明提供的底部抗反射膜树脂和组合物能够在基本不影响折光率的基础上降低吸光度,极具工业应用前景。