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一种底部抗反射膜树脂和组合物及图案形成方法
本发明属于光刻领域,涉及一种底部抗反射膜树脂和组合物及图案形成方法。所述底部抗反射膜树脂包括含氟双酯基结构单元以及任选的不含氟双酯基结构单元;所述底部抗反射膜树脂的重均分子量Mw为1000~100000;所述含氟双酯基结构单元在底部抗反射膜树脂分子链中的占比为30wt%以上,所述不含氟双酯基结构单元在底部抗反射膜树脂分子链中的占比为0~20wt%。本发明提供的底部抗反射膜树脂和组合物能够在基本不影响折光率的基础上降低吸光度,极具工业应用前景。
阻燃可降解PBS及其制备方法
本发明涉及一种阻燃可降解PBS及其制备方法,属于高分子材料加工技术领域。本发明的阻燃可降解PBS采用如下方法制备得到:以丁二酸、四氟丁二酸、2,2,3,3-四氟-1,4-丁二醇、1,4-丁二醇缩聚得到PBS;所述丁二酸、四氟丁二酸、2,2,3,3-四氟-1,4-丁二醇、1,4-丁二醇的醇酸摩尔比为1.1~1.5:1,且四氟丁二酸和2,2,3,3-四氟-1,4-丁二醇不同时为0。本发明的PBS具有疏水和阻燃性,和纯PBS一样具有良好的生物降解性,其拓宽了生物降解塑料的领域。本发明工艺简单可控,反应时间短、能耗低,具有良好的工业应用前景。