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掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法
本发明涉及一种掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法。本发明的掩模坯为具有成为相移掩模的层的掩模坯。掩模坯具有：相移层,层叠于透明基板；蚀刻停止层,设置在比所述相移层更远离所述透明基板的位置上；和遮光层,设置在比所述蚀刻停止层更远离所述透明基板的位置上。所述相移层含有铬。所述遮光层含有铬和氧。所述蚀刻停止层含有硅化钼和氮,并且在膜厚方向上靠近所述遮光层的位置上具有氮浓度达到峰值的峰值区域。
光掩模坯料、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法
本发明的课题在于,提供一种在对相移膜进行湿法蚀刻时可以缩短过刻蚀时间、抑制基板的损伤、可以形成具有良好的截面形状、LER、且耐化学品性也良好的转印图案的光掩模坯料。所述光掩模坯料是用于形成光掩模的原版,光掩模在透明基板上具有通过对相移膜进行湿法蚀刻而得到的相移膜图案,相移膜由单层或多层构成,并且相对于整体膜厚的50％以上且100％以下包含由含有钼、锆、硅及氮的材料形成的MoZrSi系材料层,MoZrSi系材料层中的钼与锆的原子比率为Mo：Zr＝1.5:1～1:4,硅相对于钼、锆及硅的合计的含有比率为70～88原子％。
EUV光掩模及其制造方法
本公开涉及EUV光掩模及其制造方法。在一种制造反射掩模的方法中,在掩模坯之上形成光致抗蚀剂层。掩模坯包括衬底、在衬底上的反射多层、在反射多层上的帽盖层、在帽盖层上的吸收体层、和硬掩模层,并且吸收体层由Cr、CrO或CrON制成。光致抗蚀剂层被图案化,硬掩模层通过使用经图案化的光致抗蚀剂层而被图案化,吸收体层通过使用经图案化的硬掩模层而被图案化,并且附加的元素被引入到经图案化的吸收体层来形成经转化的吸收体层。
激光投影设备
本申请公开了一种激光投影设备及投影屏幕,属于投影技术领域。该激光投影设备包括：光学引擎和投影屏幕,光学引擎用于出射光束,投影屏幕包括光学膜片、可卷曲基板和拉伸机构；光学膜片粘接在可卷曲基板上；可卷曲基板粘接在柔性载体上,柔性载体沿长度方向的两侧与拉伸机构固定连接,拉伸机构能够拉紧柔性载体,从而使可卷曲基板及光学膜片展开时处于平整状态,投影屏幕展开时不易出现波纹和褶皱,投影屏幕的平整度提高,且使用寿命也得以延长。
投影设备
本申请公开了一种投影设备及投影屏幕,属于投影技术领域。该投影设备包括：光学引擎和投影屏幕,光学引擎用于出射光束,投影屏幕包括光学膜片、可卷曲基板和控制机构；光学膜片粘接在可卷曲基板上；可卷曲基板上远离光学膜片的一侧设置有加多个加强筋,每个加强筋的长度方向与可卷曲基板的纵向方向不平行；可卷曲基板与控制机构固定连接,控制机构能够拉紧或收起可卷曲基板,可卷曲基板展开时支撑光学膜片处于平整状态。本申请中,可卷曲基板能够支撑光学膜片处于平整状态,同时加强筋可以增强可卷曲基板的强度,因而光学膜片不易出现褶皱和变形。这样,可以保证光学膜片的平整性,从而提高投影屏幕的显示效果。
水工模型安装装置及方法
本发明涉及一种水工模型安装装置及方法,该方法包括：在安装区域边界的不同方向上设置投影支架；在每个投影支架上固定投影仪,对投影仪的投影视图进行校核；在PC端创建安装区域内包含待安装水工模型本身的前视图、后视图、左视图、右视图和顶视图,并传输至投影仪,利用待安装水工模型的整体视图对安装后的模型进行校核。本申请提供的上述方案,整体基于投影技术,在模型安装中避免了传统的卷尺、垂球、水准尺等工具的组合使用,极大地减小了操作人员的主观操作影响、在安装时因反复调整而导致的偏差,以及分段安装时产生的累积偏差,可实现精准、快速的安装,有效解决了传统的水工模型安装效率低、误差大、费时费力的问题。
一种投影系统
本发明公开了一种投影系统,至少包括：第一光源、第二光源、第三光源、第四光源、第五光源、第一合光镜和第二合光镜；其中,第一光源用于出射第一波段的光线,第二光源用于出射第二波段的光线,第三光源用于出射第三波段的光线,第四光源用于照射激发第二光源,以增加第二光源中荧光粉层的受激发射次数,提高光源中的荧光的总强度；第五光源用于照射激发第三光源,以增加第三光源中荧光粉层的受激发射次数,提高光源中的荧光的总强度。最终第一合光镜将第一光源和第二光源的出射光合光后向第二合光镜出射,第二合光镜再将第一合光镜的出射光与第三光源的出射光合光后出射形成白光,由此提高了光源的输出亮度,进而优化了投影系统的显示效果。
激发光强度控制方法
本发明涉及激发光强度控制方法,能够应用于一激发光强度控制系统中,所述激发光强度控制系统包括光源、光调制器、色彩转换元件及控制器,所述方法包括：在所述控制器上根据一帧图像的图像信号值以及涂布于所述色彩转换元件上的特定荧光材料的响应曲线参数,计算获得所述光调制器的信号值；在所述控制器上根据计算获得的所述光调制器的信号值与所述光调制器的最大信号值的比值计算所述光源所需出射的激发光强度；在所述控制器上发送信号至所述光源以控制所述光源出射所需的激发光强度；及在所述控制器上发送信号至所述光调制器以控制所述光调制器出射的激发光强度。利用本发明能提高光能利用效率。
多色光源及投影设备
本申请公开了一种多色光源和投影设备,属于光电技术领域。所述多色光源包括：激光器、弧面反光结构、漫反射部件和匀光部件；激光器、弧面反光结构和漫反射部件沿目标方向依次排布,弧面反光结构朝漫反射部件所在侧弯曲；匀光部件位于弧面反光结构远离激光器的一侧,且匀光部件的入光口朝向弧面反光结构；弧面反光结构具有透射区和反射区；激光器用于向透射区发出多种颜色的激光,以使激光穿过透射区射向漫反射部件；漫反射部件用于使射入的激光发生漫反射后射向反射区,反射区用于将射入的激光反射向匀光部件的入光口。本申请解决了投影设备的投影画面的显示效果较差的问题。本申请用于投影。
投影仪
一种投影仪,提高配置于投影仪的装置前面的传感器与投射光学系统的相对位置精度。投影仪具有：光源；光调制装置,其对从光源射出的光进行调制；投射光学系统,其投射由光调制装置调制后的光；图像传感器,其取得与由投射光学系统投射的像相关的信息；壳体,其收纳光源、光调制装置以及图像传感器；传感器保持部,其保持图像传感器。投射光学系统具备在内部收纳透镜并供由光调制装置调制后的光通过的镜筒。镜筒借助镜筒保持部被壳体保持。传感器保持部被镜筒保持部保持。

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