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最新技术
改善膜层沉积工艺中首片效应的方法
本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种改善膜层沉积工艺中首片效应的方法。所述改善膜层沉积工艺中首片效应的方法包括如下步骤:提供反应腔室;形成覆盖于所述反应腔室内壁的第一膜层,所述第一膜层储存有热量以维持所述反应腔室内稳定的热环境;放置晶圆至所述反应腔室;于所述晶圆表面形成第二膜层。可选的,形成覆盖于所述反应腔室内壁的第一膜层的具体步骤包括:传输第一反应气体和第二反应气体至所述反应腔室,所述第一反应气体与所述第二反应气体反应生成覆盖于所述反应腔室内壁的第一膜层。本发明减小或者是最大程度的改善了首片效应的影响,提高了半导体产品的良率,同时提高了机台产能。
一种在锆合金表面制备钽涂层的方法
本发明属于锆合金表面改性技术领域,尤其涉及一种锆合金表面制备金属钽涂层的方法。本发明提供的锆合金表面制备金属钽涂层的方法,包括以下步骤:将氯气与预热的金属钽进行氯化反应,生成氯化钽气体,所述氯化反应的温度为1000~1200℃;将所述氯化钽气体和氢气在预热的锆合金表面进行还原反应,在所述锆合金表面生成钽涂层,所述还原反应的温度为1000~1200℃。本发明提供得的方法能够使金属钽均匀分布在锆合金表面,有利于提高锆合金的生物相容性和耐腐蚀能力,同时反应效率高,可大规模生产。
抗蛋白吸附涂层修饰基材及其制备方法
本发明涉及抗蛋白吸附涂层修饰基材及其制备方法。该制备方法包括:将目标基材清洗并干燥;利用化学气相沉积法,将3-氨基丙基三甲氨基硅烷沉积于目标基材表面作为基层,并获得初级修饰基材;先将寡过氧化物溶解于二恶烷中形成寡过氧化物处理液,再将第一步所得初级修饰基材放入寡过氧化物处理液中反应,并获得次级修饰基材;先将OEGMA单体溶解于水中形成OEGMA水溶液,再将次级修饰基材放入OEGMA水溶液中反应,即得抗蛋白吸附涂层修饰基材。本发明可在目标基材表面修饰抗蛋白吸附涂层,使其能够抗蛋白吸附涂层,例如在用作医疗用品时,可有效抗蛋白吸附和血小板沉积。本发明制备过程简便易行,所得产品能有效抗污染。