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一种利用纳米涂层提高脱模剂涂覆均匀性的方法
一种利用纳米涂层提高脱模剂涂覆均匀性的方法,涉及涂层和工业制造技术领域。包括以下步骤:1)配制重铬酸钾脱模剂溶液:在烧杯中加入去离子水,将重铬酸钾粉末加入烧杯中,搅拌;2)Cr涂层的制作:将清洗干净的芯模固定在溅射仓旋转台上,关闭仓门,打开循环冷水机及机械泵,对溅射仓进行抽真空,达到所需真空度后开启分子泵,通入氩气后打开电源进行溅射,利用膜厚仪监测沉积膜厚大小。通过在芯模表面沉积纳米厚度Cr薄膜,对表面进行改性,提高芯模表面能,进而有利于重铬酸钾溶液在铜模表面附着,实现涂覆均匀性,为芯模电铸脱模提供更有利的条件,提高铸件表面质量。能减少脱模剂涂覆时间,溅射方法制作的Cr涂层均匀性良好。
一种过渡族金属化合物析氢薄膜及射频反溅改性制备方法
本发明涉及电催化析氢技术领域,具体涉及一种过渡族金属化合物析氢薄膜,包括基底层和析氢催化层,所述析氢催化层设置在所述基底层的表面,所述析氢催化层为过渡族金属硫化合物、过渡族金属硒化合物和过渡族金属碲化合物中的一种所形成的薄膜,通过射频反溅产生的被离化的Ar等离子体随机辐照样品产生刻蚀效果,形成整个析氢薄膜平面内的随机刻蚀,使得析氢薄膜的催化活性得到显著提高。
一种具有纳米结构的半导体薄膜材料及其制备方法
本发明公开了一种具有纳米结构的半导体薄膜材料及其制备方法,该材料通过一步脱合金化法制备而成,同时具有纳米纤维和多面体纳米颗粒两种纳米结构。本发明所得半导体薄膜材料不仅自身具有光电流响应、醇类催化特性,而且其比表面积较大、利于载流子传输的特点使其可作为载体材料,在光电探测器、降解有机物、负载型催化剂等领域皆有应用前景。
一种Zr-B-O-N薄膜、Cu互连结构及其制备方法
本发明提供一种Zr-B-O-N薄膜、Cu互连体及其制备方法,以ZrB-2复合靶为靶材,在N-2和Ar混合气氛下进行反应磁控溅射,在基底上沉积得到Zr-B-O-N薄膜在所述的Zr-B-O-N薄膜上沉积Cu层得到Cu互连结构。本发明得到的Zr-B-O-N薄膜为非晶结构,具有扩散阻挡性能,能解决Cu互连结构中Cu扩散的问题。
基于磁控溅射与超声滚压复合强化轴承套圈表面的方法
本发明涉及一种基于磁控溅射与超声滚压复合强化轴承套圈表面的方法,该方法先制备打底层,接着利用磁控溅射技术溅射所需的主体涂层,最后用超声波滚压技术进行轴承套圈表面强化,从而制得单层涂层。之后,在单层涂层表面继续进行磁控溅射所需涂层,在超声设备上再次超声滚压,制得多层涂层。本发明充分发挥了磁控溅射和超声波滚压这两种方法的优势,使轴承套圈表面产生剧烈的微观塑性变形,使得薄膜涂层与基体之间的结合强度有效提高,改善了磁控溅射后涂层结合力弱的缺点,并且涂层的均匀性和致密性显著增强。
一种旋转镜像靶磁控溅射设备
本发明提供一种旋转镜像靶磁控溅射设备,其大幅提升材料利用率,同时可以实现低温镀膜,扩大了衬底材料的范围。其包括:基材运输装置、磁控镀膜结构,其特征在于:所述磁控镀膜结构包括:两个具备独立磁性器件的旋转靶柱,两个所述磁性器件生成的磁场结构设置为镜像对称;所述旋转靶柱设置于所述基材运输装置上的镀膜面一侧,所述旋转靶柱的柱轴线与衬底材料在所述基材运输装置上的行进方向垂直,两个所述柱轴线彼此平行,且距离所述镀膜面距离相等;两个所述旋转靶柱之间的小于等于两个所述旋转靶柱的磁场形成的高能等离子拘束区域;两个所述旋转靶柱与所述镀膜面的距离,小于等于所述旋转靶柱形成的溅射粒子的自由程。
陶瓷基复合材料用耐高温、抗水氧低红外发射率复合薄膜及制备方法
本发明涉及一种陶瓷基复合材料用耐高温、抗水氧低红外发射率复合薄膜及制备方法,陶瓷基复合材料用耐高温、抗水氧低红外发射率复合薄膜,为单层复相结构,使用时覆于目标物体表面即可。所述薄膜为连续成膜的高温导电复合薄膜,主要组分含两种,以高导电金属材料作为低红外发射率组分,以陶瓷基复合材料用环境屏障涂层材料作为保护组分。经工艺优选后,该复合薄膜可实现1000℃高温空气环境下使用2h后,2-22μm的发射率小于0.1,兼具低发射率、耐高温、抗水氧等优异性能,且其制备工艺简单,操作简易。
渐变色薄膜及其制备方法与应用
本申请涉及镀膜技术领域,提供了一种渐变色薄膜,所述渐变色薄膜包括基底,在所述基底的表面层叠结合渐变镀膜复合层,其中,所述渐变镀膜复合层具有梯度厚度。得到的渐变镀膜复合层为厚度不均一的膜层,根据光学干涉,得到渐变的颜色,故形成的产品为渐变色薄膜,性能稳定,能够广泛应用。
旋转阴极组件和涂覆系统
本申请提供了一种旋转阴极组件和包括旋转阴极组件的涂覆系统。该旋转阴极组件包含:阴极,所述阴极具有管状形状并且限定了中空中心部;包围所述阴极的屏蔽件,所述屏蔽件限定了暴露所述阴极的一部分的进入开口;以及旋转磁体子组件,所述旋转磁体子组件布置在所述阴极的中空中心部内。所述旋转磁体子组件包含具有第一磁场强度的第一磁性部件以及具有第二磁场强度的第二磁性部件。所述第一磁场强度大于所述第二磁场强度。特征在于,所述第一磁体部件和所述第二磁性部件能够在第一位置与第二位置之间旋转,在所述第一位置,所述第一磁性部件面向所述进入开口,在所述第二位置,所述第二磁性部件面向所述进入开口。
新型阴极靶及旋转进气方法
所述的一种新型阴极靶及旋转进气方法,包括空心进气阴极和可移动磁体,其特征在于:阴极靶(101)的中间设有旋转进气口(104),在固定法兰(102)的圆形套筒(106)上也设有旋转进气孔(103),这种旋转进气设计有利于弧根的旋转,也有利于产生更辉光的等离子体电弧状态;在阴极靶(101)背面设有径向磁体,在靶外侧设有可以前后可移动的磁体,该移动磁体同样可用来调控等离子体电弧的辉光状态,实现靶材的均匀刻蚀,从而使镀膜工件表面得到更光洁、致密的高质量镀膜膜层。