本发明提供一种旋转镜像靶磁控溅射设备,其大幅提升材料利用率,同时可以实现低温镀膜,扩大了衬底材料的范围。其包括:基材运输装置、磁控镀膜结构,其特征在于:所述磁控镀膜结构包括:两个具备独立磁性器件的旋转靶柱,两个所述磁性器件生成的磁场结构设置为镜像对称;所述旋转靶柱设置于所述基材运输装置上的镀膜面一侧,所述旋转靶柱的柱轴线与衬底材料在所述基材运输装置上的行进方向垂直,两个所述柱轴线彼此平行,且距离所述镀膜面距离相等;两个所述旋转靶柱之间的小于等于两个所述旋转靶柱的磁场形成的高能等离子拘束区域;两个所述旋转靶柱与所述镀膜面的距离,小于等于所述旋转靶柱形成的溅射粒子的自由程。