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最新技术
三维成像模组
本申请提供一种三维成像模组,包括:投射模组,包括光源和扩散片;光源用于发射带偏振方向的结构光;扩散片设于光源的出光侧,并能够切换为透明状态和/或供结构光散射成均匀红外光的散射状态;接收模组,包括红外芯片和第一偏振片;红外芯片与光源间隔分布;第一偏振片设于红外芯片的入光侧,且第一偏振片的偏振方向与光源发射的结构光的偏振方向一致。通过采用上述技术方案,节省了投射模组的制作成本,同时也减小了投射模组的体积。并且,第一偏振片过滤掉大部分环境光,以降低环境光对红外芯片的影响,保证红外芯片能够准确地识别目标物体,从而提高三维成像模组的成像效果。
激发光强度控制方法
本发明涉及激发光强度控制方法,能够应用于一激发光强度控制系统中,所述激发光强度控制系统包括光源、光调制器、色彩转换元件及控制器,所述方法包括:在所述控制器上根据一帧图像的图像信号值以及涂布于所述色彩转换元件上的特定荧光材料的响应曲线参数,计算获得所述光调制器的信号值;在所述控制器上根据计算获得的所述光调制器的信号值与所述光调制器的最大信号值的比值计算所述光源所需出射的激发光强度;在所述控制器上发送信号至所述光源以控制所述光源出射所需的激发光强度;及在所述控制器上发送信号至所述光调制器以控制所述光调制器出射的激发光强度。利用本发明能提高光能利用效率。
偏振周期角度连续可调的图案化液晶光取向装置及方法
本发明公开一种偏振周期角度连续可调的图案化液晶光取向装置及方法,该装置包括:光源组件、焦距伺服组件、运动控制部件、偏振光栅或傅立叶变换系统以及视场光阑,本发明能够制备周期从十微米级至毫米级,大小从几百纳米至几十微米可调的周期光栅结构,周期结构的形状大小可根据视场光阑进行选取,并可将其组合为可设计的任意图形,其中每个小周期光栅结构的偏振角度和周期自由可取,可实现大幅面高自由度的的偏振光刻图案。