一种石英晶振片研磨架
技术领域
本申请涉及晶振加工
技术领域
，具体是涉及一种石英晶振片研磨架。背景技术
需要说明的是，本部分所记载的内容并不代表都是现有技术。
石英晶片是晶振的核心元器件，石英晶体振荡器(晶振)为电子设备提供时间基准，在电子信息产业中具有极其重要的地位。主要起产生频率的作用，具有稳定，抗干扰性能良好的特性，广泛应用于各种电子产品中。石英晶片在生产流程中需要经过多道处理工序，在石英晶片的制作工艺中首先要对石英晶体原材料进行切割研磨处理，在切割好的石英晶片上面镀一层纯银，目的为了提高工作精度；然后经过点胶、测试、封焊以及密封性检查等工序，因此，一粒品质优良的晶振对于生产车间的要求是极高的。
制取的石英晶片在加工过程中有一项参数指标非常重要，即石英晶片的目标频率，而影响石英晶片的目标频率工序主要包括研磨，现有的石英晶振片的研磨大多均是放置在行星轮盘中进行研磨，研磨过程中，由于研磨盘相对于石英晶片是不断滑动的，导致其厚度无法直接测量，需要将打磨后的石英晶片取出再进行测量，若研磨后石英晶片达不到合格的标准，则需要再次放入行星轮盘中继续打磨，而石英晶片的多次取放，需要多次打开研磨上盖，严重影响加工效率。
发明内容
本发明主要针对以上问题，提出了一种石英晶振片研磨架，旨在解决现有技术中为测量石英晶振片研磨厚度而多次取放导致加工效率低下的问题。
为实现上述目的，本发明提供了一种石英晶振片研磨架，包括工作台，所述工作台上设置有数个与工作台轴承设置的研磨盘，所述工作台在所述研磨盘的周侧设置有环形导液部，所述环形导液部具有沿所述研磨盘周侧设置的导液槽以及一个由环形板盖盖合形成环向进液的流道腔，所述导液槽上设置有数个与所述流道腔连通的出液孔，所述环形导液部外壁上设置有与所述流道腔连通的导液接口；所述研磨盘具有一个负压室以及具有与负压室连通的吸附孔，所述研磨盘的背侧设置有带动所述研磨盘转动的杆轴，所述杆轴具有贯通的气道孔，所述气道孔的一端与所述负压室连通，另一端用于与外部气源装置连接；所述工作台的圆心位置固连有一气盘以及与气盘连通的立杆，所述气盘具有朝所述研磨盘方向设置的延伸部，所述延伸部上设置有数个气孔，所述工作台对应所述延伸部的延伸方向开设有与所述导液槽连通的气道槽；所述立杆外壁设置有用于连接外部气源装置的气管接口，所述立杆的末端设置有安装板，所述杆轴穿设所述安装板，在安装板的背侧设置有驱动所述杆轴转动的齿轮，所述安装板的中部通过轴承设置旋转轴，所述旋转轴的外壁设置有与所述齿轮啮合的齿轮部件。
进一步地，所述杆轴外壁具有台阶部和套设有弹簧，所述弹簧限制在所述研磨盘与所述台阶部之间，且所述研磨盘与所述杆轴之间滑动设置。
进一步地，所述研磨盘的吸附面沿圆心方向向外均匀设置有数个环状凸起，相邻的两环状凸起之间形成了环形负压槽，所述吸附孔均匀的设置在所述环形负压槽上。
进一步地，所述研磨盘与所述工作台之间设置有滚珠轴承，所述研磨盘外壁设置有容所述滚珠轴承设置的容纳槽。
进一步地，所述研磨盘的吸附面伸出所述工作台。
进一步地，所述气道槽从所述工作台的圆心朝所述导液槽逐渐增大。
进一步地，所述研磨盘包括研磨盘外壳和研磨盘吸附盖，所述研磨盘外壳和研磨盘吸附盖螺纹连接形成所述负压室。
进一步地，所述研磨盘吸附盖的内壁设置有防尘网。
进一步地，所述工作台为圆形结构。
与现有技术相比，本发明提供的一种石英晶振片研磨架，集研磨和机械手为一体，将待加工的石英晶振片吸取到可以自转的研磨盘，在保证研磨精度的情况下，能够实现对石英晶振片的快速取放。
附图说明
图1为本申请披露的一种石英晶振片研磨架的背部结构。
图2为本申请披露的一种石英晶振片研磨架的正面结构。
图3为本申请披露的一种石英晶振片的剖面结构示意图。
图4为本申请披露的一种工作台的正面结构。
图5为本申请披露的一种工作台的背部结构。
图6为本申请披露的一种气盘的立体结构示意图。
图7为申请披露的一种研磨盘的立体结构示意图。
图中所示的附图标记：
1、工作台；1-1、环形导液部；1-2、环形板盖；1-3、导液接口；1-4、滚珠轴承；1-100、导液槽；1-101、流道腔；1-102、出液孔；1-103、气道槽；
2、研磨盘；2-1、研磨盘外壳；2-2、研磨盘吸附盖；2-3、杆轴；2-4、弹簧；2-5、防尘网；2-200、负压室；2-201、吸附孔；2-202、气道孔；2-203、台阶部；2-204、环状凸起；2-205、环形负压槽；2-206、容纳槽；
3、气盘；3-1、延伸部；3-300、气孔；
4、立杆；
5、安装板；5-1、齿轮；5-2、旋转轴；5-3、齿轮部件。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明进行详细说明，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明的是，当组件被称为“固定于”另一个组件，它可以直接在另一个组件上或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件，它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
下面将以待加工的石英晶振片与本申请披露的一种石英晶振片研磨架为例来描述本公开的技术方案，根据本公开的示例，由装配图图1、图2以及剖视图图3结构可知，该研磨架可以包括形成其外观的一部分工作台1，该工作台1上设置有数个与工作台1转动设置的研磨盘2，转动的连接方式可以为轴承连接，即研磨盘2与工作台1之间设置有滚珠轴承1-4，此时参阅图7可知，研磨盘2外壁设置有容该滚珠轴承1-4设置的容纳槽2-206，使研磨盘2可以相对工作台1自转。
继续参阅图1-图5，工作台1在上述研磨盘2的周侧设置有环形导液部1-1，环形导液部1-1具有沿研磨盘2周侧设置的导液槽1-100以及一个由环形板盖1-2盖合形成环向进液的流道腔1-101，导液槽1-100与流道腔1-101之间通过开设数个出液孔1-102连通，这样，当在环形导液部1-1外壁上设置与流道腔1-101连通的导液接口1-3时，通过外部的输液源可以将研磨过程中所需的研磨液或冷却液通过导液接头1-3输送至流道腔1-101，再经开设的数个出液孔1-102进入导液槽1-100中，进而实现石英晶振片研磨过程中研磨液或冷却液的添加，由于导液槽1-100为环向布置的方式，可以在研磨的瞬间，填充至打磨的各个区域，提高研磨的质量要求，另一方面，数个出液孔1-102同样以环向均匀的布置方式设置来实现均匀输液。
如图3所示，对研磨盘2而言，上述中的研磨盘2由研磨盘外壳2-1和研磨盘吸附盖2-2围合而成，研磨盘外壳2-1和研磨盘吸附盖2-2以螺纹连接的方式形成负压室2-200，负压室2-200上开设有贯通的吸附孔2-201，研磨盘2的背侧设置有带动该研磨盘2转动的杆轴2-3，转动杆轴2-3可以在整个研磨架放置到打磨盘中实现研磨盘2在研磨过程中的自转，杆轴2-3为空心结构，内部具有贯通的气道孔2-202，气道孔2-202的一端与负压室2-200连通，另一端用于与外部气源装置连接，由外部气源装置向杆轴2-3的气道孔2-202抽气，使负压室2-200开设的吸附孔2-201吸气，形成负压真空，将待加工的石英晶振片夹取在研磨盘2上，一方面可以实现石英晶振片的打磨，另一方面可以在石英晶振片打磨完毕后，快速的转移至厚度测量装置进行厚度检测，避免了传统技术方案中需要多次打开研磨上盖造成效率低下的问题，同时对该负压结构而言，上述设计结构，可以避免转动过程中气管的缠绕问题。另外，需要说明的是，石英晶振片的打磨其转速不易过高。
图1、图2、图6所示，工作台1的圆心位置固连有一气盘3以及与气盘3连通的立杆4，气盘3具有朝研磨盘2方向设置的延伸部3-1，延伸部3-1上设置有数个气孔3-300，在该实施例中，立杆4与工作台1固连，在打磨过程中用以保持不动状态，延伸部3-1的数量与研磨盘2的数量一致，其数个气孔3-300均朝下研磨盘2的吸附面，用于吹落研磨盘2打磨后的粉尘、液体，提高后续的厚度测量精度。
具体的是，工作台1对应延伸部3-1的延伸方向开设有与导液槽1-100连通的气道槽1-103，气道槽1-103的高度应大于或等于延伸部3-1的厚度，使延伸部3-1不超出工作台1的台面，避免打磨时与打磨盘发生干涉；立杆4外壁设置有用于连接外部气源装置的气管接口(未图示)，该立杆4同样为空心管，外部气源装置向立杆4内部的中空腔吹气，将气流引入气盘3的内部，经延伸部3-1后从各延伸部3-1的气孔3-300出气；另外，立杆4的末端设置有安装板5，上述的各杆轴2-3要穿设该安装板5，在安装板5的背侧设置可以驱动各杆轴2-3转动的齿轮5-1，安装板5的中部通过轴承设置旋转轴5-2，旋转轴5-2的外壁设置有与各齿轮5-1啮合的齿轮部件5-3，旋转轴5-2由电机或其它动力部件驱动，此时安装板5、立杆4以及工作台1均为固连状态，在旋转轴5-2的转动过程中保证不动，转动的旋转轴5-2通过齿轮部件5-3带动各齿轮5-1转动，进而使工作台1上的各研磨盘2自转，实现高精度的研磨。
图3示出了根据本公开具体示例中研磨架的剖视结构。如图3所示，该杆轴2-3外壁具有台阶部2-203和套设有弹簧2-4，弹簧2-4被限制在研磨盘2与台阶部2-203之间，且杆轴2-3上设置有滑动槽(未图注)，使研磨盘2与杆轴2-3滑动设置，这样在研磨过程中，可以自适用的对研磨盘2进行上下调整，当然调整的最大行程仍然使该研磨盘2的吸附面不低于工作台1的台面。
图7为研磨盘2的立体结构示意图，从图7中可以看出，该研磨盘2的吸附面沿圆心方向向外均匀设置有数个环状凸起2-204，相邻的两环状凸起2-204之间形成了环形负压槽2-205，吸附孔2-201均匀的设置在环形负压槽2-205上，当石英晶振片在吸附面时，环形负压槽2-205被闭合，形成负压腔，可以加工对石英晶振片的吸附力。
优选的，所述研磨盘2的吸附面伸出所述工作台1。
优选的，所述气道槽1-103从所述工作台1的圆心朝所述导液槽1-100逐渐增大。
优选的，所述研磨盘吸附盖2-2的内壁设置有防尘网2-5，以避免研磨产生的粉尘被吸入负压室2-200，另外，螺纹连接的研磨盘吸附盖2-2也便于定期对防尘网2-5进行拆离清洗或更换。
优选的，所述工作台1大致呈圆形结构。
通过上述具体实施方式的阅读理解，所属技术领域的技术人员可容易地实现本发明。但是应当理解，本发明不限于这种具体实施方式。在所公开实施方式的基础上，所述基础领域的技术人员可任意组合不同的技术特征，从而实现不同的技术方案，其上也可与不同形式的附加功能结合而形成其他技术方案。因此，本申请的保护范围仅由所附权利要求的范围来限定。
以上应用了具体个例对本发明进行阐述，只是用于帮助理解本发明，并不用以限制本发明。对于本发明所属技术领域的技术人员，依据本发明的思想，还可以做出若干简单推演、变形或替换。
