一种低Gd含量的Mg-Gd合金及其制备和热处理方法

文档序号:3517 发布日期:2021-09-17 浏览:57次 英文

一种低Gd含量的Mg-Gd合金及其制备和热处理方法

技术领域

本发明涉及镁合金

技术领域

,具体涉及一种低Gd含量的Mg-Gd合金及其制备和热处理方法。

背景技术

作为目前密度最小的结构材料,镁合金具有比强度和比刚度高、散热减震性好、原料丰富及可回收利用等优点,十分具有发展潜力。在目前所开发的高强度镁合金中,Mg-Gd系合金所占的比例较高。Gd元素在镁合金中的强化效果主要通过形成MgGd强化相来实现。由Mg-Gd二元合金相图可知,Gd元素在镁基体中的最大固溶度可以达到23.3%(质量百分比)。在Mg-Gd二元合金中,通常Gd含量要在10%(质量百分比)以上,才能形成MgGd强化相,获得理想的强化效果。

但是,较高的Gd的含量首先会增加成本,不利于镁合金的推广应用;其次,在制备过程中容易发生偏析,降低合金力学性能,并且增加镁合金密度,降低镁合金低密度的优势。

目前,Mg-Gd合金主要通过添加其他合金元素来降低Gd元素含量并同时得到MgGd强化相,常用的元素有Y、Nd、Sm、Ag、Zn等。从公开报道的数据来看,Gd元素的含量仍然达到了6~15%(质量百分比),仍然存在上述缺点。

因此,如何设计一种Gd含量低且含有MgGd强化相的镁合金,是本领域技术人员研究的方向。

发明内容

针对现有技术存在的上述不足,本发明的目的在于解决现有的Mg-Gd合金中Gd含量较高容易发生偏析、增加镁合金密度以及成本高的问题,提供一种低Gd含量的Mg-Gd合金。

为了解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:

一种低Gd含量的Mg-Gd合金,包含以下质量百分比的化学成分:Gd:2~5%,Li:2~5%,Y:1~3%,Nd:1~2%,Zr:0.2~0.6%,余量为镁和不可避免的杂质。

优选,所述Li的质量百分比为2~3%。这样,Li能够全部固溶到Mg基体中。

优选,所述Li与Gd的原子比大于10:1,这样,Li的原子百分含量比Gd高一个数量级,更易在镁合金基体内形成MgGd强化相。

本发明还提供一种低Gd含量Mg-Gd合金的制备方法,包括以下步骤:

S1、按照所述的低Gd含量的Mg-Gd合金的配比进行备料;

S2、在SF6 + CO2气体保护下,在电阻炉中将合金材料熔化后精炼2~4 min,再在电阻炉内静置25~30 min后浇铸到金属模具中获得铸件。

其中,步骤S2中,所述合金材料为Mg-20Gd中间合金、Mg-20Y中间合金、Mg-10Li中间合金、Mg-20Nd中间合金和Mg-30Zr中间合金。

本发明还提供一种低Gd含量Mg-Gd合金的热处理方法,将制备的铸件放入坩埚中,将坩埚放入马弗炉中升温至480~500 ℃后进行保温处理,保温时间2~4 h;其中,升温速率为1~2 ℃/min;保温完成后取出所述坩埚立刻在水中淬火,完成热处理。

优选,将所述铸件用石墨包埋后放入坩埚中。

与现有技术相比,本发明具有如下优点:

1、本发明通过加入锂元素,由于锂与镁不形成化合物,在锂含量低于5.5%时会全部固溶到镁基体中,因此,锂的加入降低了Gd在镁合金中的固溶度,并促进MgGd相的生成,即利用固溶态的Li促进MgGd相在低合金含量下形成,使得本发明提供的镁合金中,主要强化相为MgGd相,但Gd的含量不大于5%,降低了Gd在Mg-Gd合金中的含量,进而降低使得镁合金的成本降低,并且在制备过程中不易发生偏析,提高了合金的力学性能。此外,锂的密度小(约0.5 g/cm3),进一步降低镁合金的密度,能够充分发挥镁合金低密度的优势。该Mg-Gd变形合金在表现出时效硬化能力。

2、锂与锆之间不形成化合物,同时没有固溶度,因此含锂的Mg-Gd合金可以用锆来细化晶粒,实现细晶强化,从而提高镁合金的综合力学性能。

3、由于锂的相对原子量小(约6.9),加入较低的质量百分比的锂就能提高合金中锂的原子百分比,从而起到利用少量的Li元素促进MgGd相的形成的作用,有利于降低镁合金的成本。本发明中,控制Li与Gd的原子比大于10:1,这样,Li的原子百分含量比Gd高一个数量级,更易在镁合金基体内形成MgGd强化相,从而提高镁合金的力学性能。

4、本发明提供的制备方法简单易操作,Li以及其他元素的加入都以中间合金的形式加入,减少了加入的合金元素的烧损,有利于控制合金成分。

5、本发明提供的热处理方法步骤简单,采用常规的实验设备。固溶温度为480-500℃,低于传统的500-525℃,降低了能耗。

附图说明

图1为本发明实施例1制备的Mg-Gd合金的原始铸态金相组织。

图2为本发明实施例1制备的Mg-Gd合金的X射线衍射图。

图3为本发明实施例1制备的Mg-Gd变形镁合金的时效硬化曲线(时效温度为200℃)。

图4为本发明实施例1制备的Mg-Gd变形镁合金的应力-应变曲线图。

图5为本发明实施例2制备的Mg-Gd合金原始铸态金相组织图。

图6为本发明实施例2制备的Mg-Gd合金挤压态金相组织图。

图7为本发明实施例3制备的Mg-Gd合金原始铸态金相组织图。

图8为本发明实施例3制备的Mg-Gd合金挤压态金相组织图。

具体实施方式

下面将结合实施例及附图对本发明作进一步说明。

实施例1

1、Mg-Gd合金的制备

按Mg-3%Gd-3%Li-2%Y-1%Nd-0.4%Zr(质量分数)进行配料,表面打磨干净后加入已经预热的电阻炉中,通入SF6 + CO2混合气体作为保护,逐步升温至760℃。当坩埚内炉料全部熔化后,精炼2~4 min。温度控制在720℃,合金在炉内静置25~30 min后浇注。铸锭在模内冷却后,即开模取出。

本实施例制得的铸态镁合金的金相组织如图1所示。图1中,较亮部分为基体Mg相,晶粒呈枝晶状态,晶界处衬度较暗,为第二相。对样品进行X-射线衍射分析,结果参见图2,可以得到合金的相组成为Mg + Mg5Gd,即第二相组织为Mg5Gd相。可见,在Li的加入下,即使Gd的含量降低到3%,仍然生成了Mg5Gd相。

2、Mg-Gd合金的热处理

将制备的镁合金用石墨包埋在不锈钢坩埚中,把坩埚放入马弗炉中,从室温升温到500℃,升温速率为1℃/min,达到设定温度500℃后进行保温处理,保温时间2 h,保温完成后关闭电源,取出坩埚即刻在水中淬火,完成热处理。

3、Mg-Gd合金的性能测试

将热处理完成后的样品切割加工后放入380℃马弗炉中进行保温处理,保温时间15 min,同时将挤压机的挤压筒温度控制在380℃,样品保温完成后放入挤压机中进行挤压,挤压比为25:1,得到挤压棒材,将部分棒材在200℃下时效。

本实施例中,挤压态Mg-Gd合金的时效硬化曲线如图3所示。从图3可知,本实施例制备的Mg-Gd合金表现出了时效硬化能力,说明合金具有时效硬化能力,实现了析出强化。这一点在图4应力-应变曲线图得到证实。

实施例2

1、Mg-Gd合金的制备

按组成Mg-4%Gd-3%Li-3%Y-2%Nd-0.4%Zr(质量分数)进行配料,表面打磨干净后加入已经预热的电阻炉中,通入SF6 + CO2混合气体作为保护,逐步升温至760℃。当坩埚内炉料全部熔化后,精炼2~4 min。温度控制在720℃,合金在炉内静置25~30 min后浇注。铸锭在模内冷却后,即开模取出。

2、Mg-Gd合金的热处理

将制备的镁合金用石墨包埋在不锈钢坩埚中,把坩埚放入马弗炉中,从室温升温到500℃,升温速率为1℃/min,达到设定温度500℃后进行保温处理,保温时间4 h,保温完成后关闭电源,取出坩埚即刻在水中淬火,完成热处理。

3、Mg-Gd合金的性能测试

热处理完成后的样品切割加工后放入400℃马弗炉中进行保温处理,保温时间15min,同时将挤压机的挤压筒温度控制在400℃,样品保温完成后放入挤压机中进行挤压,挤压比为25:1,得到挤压棒材,将部分棒材在200℃下时效。

本实施例中制备的Mg-Gd合金的原始铸态图如图5所示,挤压态的金相组织图如图6所示。从图5和图6可知,基体由原始铸态的枝晶组织,经过热处理、挤压后转变为等轴晶组织,平均晶粒尺寸由原始铸态的88±25 μm,细化到挤压态的12±8 μm,实现了细晶强化。原始铸态合金中,第二相在基体晶界处连续分布,在拉伸过程中容易形成裂纹源;挤压态合金中,第二相被挤压破碎,在基体中弥散分布,通过弥散强化提高合金力学性能。

实施例3

1、Mg-Gd合金的制备

按组成Mg-3%Gd-2%Li-2%Y-2%Nd-0.3%Zr(质量分数)进行配料,表面打磨干净后加入已经预热的电阻炉中,通入SF6 + CO2混合气体作为保护,逐步升温至760℃。当坩埚内炉料全部熔化后,精炼2~4 min。温度控制在720℃,合金在炉内静置25~30 min后浇注。铸锭在模内冷却后,即开模取出。

2、Mg-Gd合金的热处理

将制备的镁合金用石墨包埋在不锈钢坩埚中,把坩埚放入马弗炉中,从室温升温到500℃,升温速率为1℃/min,达到设定温度500℃后进行保温处理,保温时间3 h,保温完成后关闭电源,取出坩埚即刻在水中淬火,完成热处理。

3、Mg-Gd合金的性能测试

热处理完成后的样品切割加工后放入390℃马弗炉中进行保温处理,保温时间15min,同时将挤压机的挤压筒温度控制在390℃,样品保温完成后放入挤压机中进行挤压,挤压比为25:1,得到挤压棒材,将部分棒材在200℃下时效。

本实施例中制备的Mg-Gd合金的固溶态金相组织图如图7所示,挤压态的金相组织图如图8所示。从图7和图8中可知,基体由原始铸态的枝晶组织,经过热处理、挤压后转变为等轴晶组织,平均晶粒尺寸由原始铸态的85±25 μm,细化到挤压态的11±7 μm,实现了细晶强化。由于挤压温度的降低,在变形合金中出现了少量未完全再结晶的剪切带。原始铸态合金中,第二相在基体晶界处连续分布,在拉伸过程中容易形成裂纹源;挤压态合金中,第二相被挤压破碎,在基体中弥散分布,通过弥散强化提高合金力学性能。

表1 实施例1-3中Li与Gd的质量百分比与原子比

Li与Gd的质量百分比 Li与Gd的原子比
实施例1 3:3 95.77:4.23≈22.6:1
实施例2 3:4 94.44:5.56≈16.98:1
实施例3 2:3 98.79:6.21≈15.9:1

本发明提供的Mg-Gd合金中,Li和Gd的质量百分比均小于5%。从表1中可知,实施例1-3中Li与Gd的原子比均大于10:1。Mg-Gd合金中的主要强化相为Mg5Gd相。由于Li的加入,降低了Gd在镁合金中的固溶度,并促进MgGd相的生成,使得制备的镁合金中,主要强化相为MgGd相,降低了镁合金的成本,并且在制备过程中不易发生偏析,该Mg-Gd变形合金表现出时效硬化能力,提高了合金的力学性能。

最后需要说明的是,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制技术方案,本领域的普通技术人员应当理解,那些对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本技术方案的宗旨和范围,均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

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